【48812】等离子清洗不同样品怎么正确的挑选对应的气体？

  氧气O2：首要铲除物体外表的有机物，将有机污染物分解成气态产品。例如，运用氧等离子体可以轻松又有用地去除有机污染物，其间氧等离子体与污染物反响发生二氧化碳和水蒸汽。

  氩气Ar：因为氩气是一种彻底惰性气体，氩气清洗的机理是物理炮击。氩气是最有用的物理清洗气体，因为它的原子很大，可以用很大的力气炮击样品外表。带正电的氩离子在电场力的加快作用下发生很高的动能，向样品外表飞去。冲击力能把外表的各种污染物打掉。然后经过真空泵将这些污染物以气态方式去除。

  氮气N2：电离后的氮气构成的等离子体能与某些分子结构发生化学反响，所以也是一种活性气体。与氧和氢比较，氮颗粒更重。在清洗和活化过程中，它们能到达必定的炮击和刻蚀作用，并避免某些金属外表的氧化。

  氢H2：氢等离子体可用于去除金属外表的氧化物。常与氩气混合，以进步去除率。因为忧虑氢的易燃性，氢的用量一般很小。并且，人们更关怀的是氢气的贮存问题。咱们我们可以运用氢气发生器从水中实时发生氢气，然后消除储氢的潜在损害。

  四氟化碳CF4：含氟气体等离子体大范围的使用于半导体芯片制造业和PCB（印刷电路板）职业，但在半导体封装中的使用并不广泛。含氟等离子也被用于刻蚀塑封器材的环氧塑封料，一层一层地剥离模塑料，逐步显露器材内部的结构，作为器材失效剖析的一种手法。

  *复原金属氧化物，用氢气或氩氢混合气，可以直接进行恰当的加热来进步工艺功率；

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